Реестр соответствияЕвразийский экономический союз ← Вернуться к поиску
Заявитель
Страна
Россия
Адрес
Россия Москва 108811 Московский поселение улица Адмирала Корнилова дом 61 помещение 1/2
Контакты
Телефон: +74992880024 · Эл. почта: ved@eminentltd.ru
ИНН
9701193090
ОГРН
1217700642796
Изготовитель
Наименование
Shanghai Litho-tec Co., Ltd..
Страна
CN
Адрес
Китай No. 136 Lane 12 Rongle Middle Road Songjiang District Shanghai China.
Контакты
Не указано
ИНН
Не указано
ОГРН
Не указано
Продукция
Тип выпуска
серийный выпуск
Описание и условия
Декларация соответствия распространяется на продукцию, изготовленную с даты изготовления отобранных образцов (проб) продукции, прошедших исследования (испытания) и измерения, указанную в акте(ах) отбора
Коды ТН ВЭД
Торговое наименование
Не указано
Идентификаторы продукции
Не указано
Основные сведения
Номер документа
ЕАЭС N RU Д-CN.РА11.В.37696/24
Номер бланка
Не указано
Вид документа
декларация о соответствии ТР ЕАЭС
Схема сертификации
1д
Дата регистрации
11.12.2024
Период действия
11.12.2024 — 10.12.2029
Дата обновления источника
11.12.2024
Публичный UUID
019faa79-bb61-7136-afa6-221e2fd8acf4
Технические регламенты
Орган по сертификации
Номер в реестре
0
Страна
Россия
Адрес
Не указано
Контакты
Не указано
Дата аккредитации
Не указано
Лаборатории и протоколы

Испытательная Лаборатория СИСТЕМА КАЧЕСТВА Общества с ограниченной ответственностью СИСТЕМА КАЧЕСТВА (ООО СИСТЕМА КАЧЕСТВА) , аттестат аккредитации РОСС RU.З2671.04АЛЯ0ИЛ008

Номер аккредитации
Не указано
Протокол
СК-24/12-0550
Дата протокола
11.12.2024
Вид документа
Протокол исследований и испытаний (измерений)
Стандарты и доказательные документы
Не указано Арматура трубопроводная. Общие требования безопасности Не указано
Не указано Совместимость технических средств электромагнитная. Устойчивость к электромагнитным помехам технических средств, применяемых в промышленных зонах. Требования и методы испытаний ГОСТ IEC 61000-6-4-2016 (раздел 7)
Не указано совместимость (ЭМС). Общие стандарты. Стандарт электромагнитной эмиссии для промышленных обстановок Не указано
Приложения

Приложения не указаны.